甲硅烷
甲硅烷 | |||
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IUPAC名 silicane | |||
别名 |
四氢化硅 氢化硅 硅烷 |
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识别 | |||
CAS号 |
7803-62-5 ![]() |
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PubChem |
23953 |
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ChemSpider |
22393 |
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SMILES |
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InChI |
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InChIKey |
BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYAE |
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Gmelin |
273 |
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UN编号 |
2203 |
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ChEBI |
29389 |
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RTECS |
VV1400000 |
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性质 | |||
化学式 |
SiH4 |
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摩尔质量 |
32.12 g mol−1 g·mol⁻¹ |
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外观 |
无色气体 |
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密度 |
? kg m−3(固态) 0.7 g/ml(液态) 1.342 g L−1(气态) |
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熔点 |
88 K (−185°C) |
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沸点 |
161 K (−112°C) |
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溶解性(水) |
水解 |
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结构 | |||
分子构型 |
正四面体 |
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偶极矩 |
0 D |
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热力学 | |||
ΔfHm |
-1615 kJ mol−1 |
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S |
283 J mol−1 K−1 |
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危险性 | |||
主要危害 |
毒性较低,避免暴露。可能造成红肿和发炎。极易燃烧。 |
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NFPA 704 |
![]() 4 2 3 |
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闪点 |
N/A |
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自燃温度 |
294 K (21°C) |
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相关物质 | |||
相关氢化物 |
甲烷、甲锗烷 |
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若非注明,所有数据均出自一般条件(25 ℃,100 kPa)下。 |
甲硅烷(英语:Silane),也稱甲矽烷、矽甲烷,化学式为SiH4,是一种硅烷;有时也被简称为硅烷(勿混淆)。它的结构与甲烷类似,只是用硅取代了甲烷中的碳。在室温下,硅烷是一种易燃的气体,在空气中,无需外加火源,硅烷就可以自燃。但是有学者认为,硅烷本身是很稳定的,在自然状态下,是以聚合物的状态存在的。在超过420摄氏度的环境下,硅烷会分解成硅和氢,因此硅烷可以被用来以薄膜沉積提纯硅,是半導體工業重要的特用電子級氣體之一[1]。
目录
1 制备
2 安全
3 參見
4 參考資料
制备
工業上,多晶塊狀硅首先在摄氏200度置於流床反應器下鹽酸化:硅與通入的鹽酸氣形成三氯化硅和氫氣。反應式如下:
- Si + 3 HCl → HSiCl3 + H2
將經過蒸餾純化的三氯化硅置於有催化劑的resinous bed反應器而產生歧化反應,形成硅烷和四氯化硅。反應式如下:
- 4 HSiCl3 → SiH4 + 3 SiCl4
此反應的催化劑常以金屬鹵化物爲主,尤其是氯化鋁。
安全
矽烷在空氣中爆炸性極高,尤其與氮氣等氣體混在一起爆炸性更高,只要1%的矽烷和純氮就有可能引發爆炸[來源請求]。另外矽烷對眼睛具有刺激性。
參見
- 矽烷
- 乙矽烷
參考資料
- organofunctional silanes from Degussa AG
- organofunctional silanes for building protection - water repellents - masonry protection - Graffiti Controll - sealer - easy to clean surface from Degussa AG
http://www.siridion.com chlorosilanes for telecommunication and electronic materials from Degussa- 以硅烷化合物製備多晶矽原料
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^ 台灣特品化學公司
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